ভাল পুনরাবৃত্তিযোগ্যতা ক্ষতিহীন ভ্যাকুয়াম লেপ মেশিন

সেমিকন্ডাক্টর (চিপ/ইন্টিগ্রেটেড সার্কিট) উত্পাদন প্রক্রিয়াগুলিতে, ফটোলিথোগ্রাফি ইন্টিগ্রেটেড সার্কিট প্যাটার্ন স্থানান্তরের একটি গুরুত্বপূর্ণ পদক্ষেপ। ফটোরেসিস্ট আবরণের গুণমান সরাসরি ফটোলিথোগ্রাফির গুণমানকে প্রভাবিত করে, লেপ প্রক্রিয়াটিকে বিশেষভাবে গুরুত্বপূর্ণ করে তোলে। ফটোলিথোগ্রাফিতে ব্যবহৃত বেশিরভাগ ফটোরেসিস্ট হাইড্রোফোবিক, যখন হাইড্রোক্সিল গ্রুপ এবং সিলিকন ওয়েফার পৃষ্ঠের অবশিষ্ট জলের অণুগুলি হাইড্রোফিলিক। এর ফলে ফটোরসিস্ট এবং সিলিকন ওয়েফারের মধ্যে দুর্বল আনুগত্য হয়, বিশেষ করে ইতিবাচক ফটোরেসিস্টের সাথে। বিকাশের সময়, বিকাশকারী সমাধান ফটোরেসিস্ট এবং সিলিকন ওয়েফারের মধ্যে ইন্টারফেসে প্রবেশ করতে পারে, সহজেই ফটোরেসিস্টের পিলিং এবং ভাসানোর মতো ঘটনা ঘটায়, যার ফলে ফটোলিথোগ্রাফিক প্যাটার্ন স্থানান্তর ব্যর্থ হয়। একই সাথে, ভেজা এচিং পার্শ্বীয় এচিং প্রবণ।  একটি এইচএমডিএস প্রিট্রিটমেন্ট সিস্টেমের সাথে প্রিট্রিটমেন্টের পরে, একটি সিলোক্সেন-ভিত্তিক যৌগটি সাবস্ট্রেট পৃষ্ঠের উপর লেপা হয়। ওয়েফার পৃষ্ঠটি হাইড্রোফিলিক থেকে হাইড্রোফোবিক পরিবর্তিত হয়, যোগাযোগের কোণ হ্রাস করে, প্রয়োজনীয় ফটোরেসিস্টের পরিমাণ হ্রাস করে এবং ফটোরেসিস্টে আনুগত্য বাড়ায়। এটি উন্নয়ন প্রক্রিয়া চলাকালীন পাশ্বর্ীয় এচিং এবং প্যাটার্ন প্রবাহকে বাধা দেয়, ফটোরেসিস্ট আনুগত্য উন্নত করে এবং কঠোর পরিবেশে উপাদানের ক্ষয় প্রতিরোধ ক্ষমতা বাড়ায়, যার ফলে পণ্যের গুণমান উল্লেখযোগ্যভাবে উন্নত হয় এবং ত্রুটির হার হ্রাস পায়।

প্রক্রিয়া উদ্দেশ্য:
পিএলসি নিয়ন্ত্রণ ব্যবহার করে সরঞ্জামগুলি সম্পূর্ণ স্বয়ংক্রিয়ভাবে কাজ করে।  প্রক্রিয়াটির মধ্যে পৃষ্ঠের আর্দ্রতা অপসারণের জন্য স্তরটির উচ্চ-তাপমাত্রা বেক করা জড়িত, ভ্যাকুয়াম শুষ্ককরণ এবং নাইট্রোজেন সুরক্ষা প্রযুক্তির সাথে ওয়েফার পৃষ্ঠ থেকে আর্দ্রতা এবং দূষক অপসারণের জন্য, অক্সিডেশন এবং অপরিচ্ছন্নতা ছড়িয়ে পড়া রোধ করা এবং আবরণের আগে পরিষ্কার-পরিচ্ছন্নতা নিশ্চিত করা জড়িত। HMDS (hexamethyldisilazane C6H19NSi2) গ্যাস তারপর চালু করা হয়। উচ্চ তাপমাত্রার অধীনে, সাবস্ট্রেট পৃষ্ঠ এবং HMDS সম্পূর্ণরূপে বিক্রিয়া করে, প্রাথমিকভাবে সিলোক্সেন দ্বারা গঠিত একটি যৌগ গঠন করে। এটি সাবস্ট্রেট পৃষ্ঠকে হাইড্রোফিলিক থেকে হাইড্রোফোবিক এ পরিবর্তন করে, যা হাইড্রোফোবিক গ্রুপটিকে ফটোরেসিস্টের সাথে ভালভাবে বন্ধন করতে দেয়, একটি কাপলিং এজেন্ট হিসাবে কাজ করে।

প্রক্রিয়া প্রবাহ:
প্রথমত, ভ্যাকুয়াম পাম্প চালু করা হয় ভ্যাকুয়ামিং শুরু করার জন্য। একবার চেম্বারে ভ্যাকুয়াম স্তর সেট মান পৌঁছে গেলে (এই মান ভ্যাকুয়াম গেজে P2 মান পরিবর্তন করে সেট করা যেতে পারে, ভ্যাকুয়াম গেজ ম্যানুয়াল দেখুন), নাইট্রোজেন চালু করা হয়। সেট ভ্যাকুয়াম স্তরে পৌঁছানোর পরে (এই মানটি ভ্যাকুয়াম গেজে P1 মান পরিবর্তন করে সেট করা যেতে পারে), ভ্যাকুয়ামিং এবং নাইট্রোজেন প্রবর্তন প্রক্রিয়া পুনরাবৃত্তি হয়। নাইট্রোজেন প্রবর্তনের সেট সংখ্যায় পৌঁছানোর পরে, ভ্যাকুয়ামিং আবার শুরু হয়, তারপরে রাসায়নিক দ্রবণ প্রবর্তন করা হয়। নির্ধারিত সময়ের পরে, রাসায়নিক দ্রবণের প্রবর্তন বন্ধ হয়ে যায় এবং ধারণ পর্ব শুরু হয়। সেট ধারণের সময় পরে, চক্রের সেট সংখ্যার জন্য, ভ্যাকুয়ামিং এবং নাইট্রোজেন প্রবর্তন আবার শুরু হয়। সিস্টেমটি স্বয়ংক্রিয়ভাবে প্রক্রিয়াটি সম্পন্ন করার পরে, একটি শ্রবণযোগ্য এবং ভিজ্যুয়াল অ্যালার্ম দেওয়া হয়, যা নির্দেশ করে যে ওয়েফারগুলি অপসারণের জন্য প্রস্তুত৷